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Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns , 1968. <BB00537645>
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Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

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No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 自動書庫 507/23/5 3000304653
 0件
No. 0001
巻号
配置場所 自動書庫
請求記号 507/23/5
資料ID 3000304653
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar / begründet von Eduard Reimer
版事項 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl / von Karl Nastelski ... [et al.]
出版・頒布事項 Köln : C. Heymanns , 1968
形態事項 xxx, 2505 p. ; 24 cm
学情ID BA19109439
本文言語コード ドイツ語
著者標目リンク Reimer, Eduard <>
著者標目リンク Karl, Nastelski <>
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